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A new generation of small, cost-effective, CW ultraviolet (UV) lasers allows more applications to move to UV wavelengths for increased power and precision.

計量對於確保光學元件始終滿足其所需的規格至關重要，尤其是在雷射應用中。

光透過多種方法被光學介質吸收，包括將電子激發到更高能態以及轉化為熱能

Beam Conditioning Optics for UV, IR, and Broadband Lasers

了解如何瀏覽用於塑造雷射光束的輻照度輪廓和相位的許多可用選項，以最大限度地提高雷射系統的性能。

The unique absorption properties of 2µm lasers allow them to create small and precise cuts for medical and materials processing applications

雷射擴束鏡對於降低功率密度、最小化遠距離光束直徑以及最小化聚焦雷射光斑尺寸至關重要。

The industry standard method for quantifying reflectivity does not tell the whole story

了解最常見的雷射光源、操作模式和增益介質為您的特定應用選擇合適的雷射提供了背景。

了解確保雷射應用成功必須考慮的關鍵參數。將為這些參數建立通用術語。

Understanding the polarization of laser light is critical for many applications, as polarization impacts reflectance, focusing the beam, and other key behaviors.

了解最常用的雷射光學材料將有助於輕鬆瀏覽 EO 的多種雷射光學組件選擇。

超快雷射的短脈衝持續時間使其與光學元件的相互作用不同，從而影響光學元件的雷射損傷閾值。

Beam Shaping for High Power and Short Pulse Durations

雷射諧振腔的長度決定了雷射的諧振腔模式，或在腔體內產生駐波的電場分佈。

測試雷射誘導損傷閾值 (LIDT) 尚未標準化，因此了解光學元件的測試方式對於預測性能至關重要。

了解為什麼玻璃的體雷射誘導損傷閾值 (LIDT) 與帶有塗層（例如 AR 薄膜）的 LIDT 光學元件顯著不同。

雷射誘導損傷閾值 (LIDT) 或雷射損傷閾值 (LDT) 對於選擇或指定雷射光學器件至關重要。在愛特蒙特光學了解更多！

Pushing Optics to the Extreme

皮膚護理的未來取決於雷射光學

眼部護理的未來取決於雷射光學。

Pulse Compression and Dispersion Compensation for Ultrafast Lasers

Fluorescence imaging systems are composed of three major components, an illumination source, a photo-activated fluorophore sample, and detector.

高反射率 (HR) 鍍膜應用於光學元件，以最大限度地減少反射雷射和其他光源時的損失。

E-Series Kinematic Optical Mounts provide high value and essential features for applications including lab use, prototyping, and system integration

想了解更多關於螢光顯微鏡用螢光濾光片的資訊嗎？在愛特蒙特光學了解更多資訊和庫存光學濾光片。

抗反射 (AR) 鍍膜應用於光學元件，以提高吞吐量並減少背反射造成的傷害。

New optical filters are being developed due to the advancements in applications and technologies. Learn more about the future of filters at Edmund Optics.