Edmund Optics^®

E-Series Kinematic Optical Mounts provide high value and essential features for applications including lab use, prototyping, and system integration

A new generation of small, cost-effective, CW ultraviolet (UV) lasers allows more applications to move to UV wavelengths for increased power and precision.

The unique absorption properties of 2µm lasers allow them to create small and precise cuts for medical and materials processing applications

雷射誘導損傷閾值 (LIDT) 或雷射損傷閾值 (LDT) 對於選擇或指定雷射光學器件至關重要。在愛特蒙特光學了解更多！

雷射擴束鏡對於降低功率密度、最小化遠距離光束直徑以及最小化聚焦雷射光斑尺寸至關重要。

Understanding the polarization of laser light is critical for many applications, as polarization impacts reflectance, focusing the beam, and other key behaviors.

Beam Conditioning Optics for UV, IR, and Broadband Lasers

計量對於確保光學元件始終滿足其所需的規格至關重要，尤其是在雷射應用中。

The industry standard method for quantifying reflectivity does not tell the whole story

了解如何瀏覽用於塑造雷射光束的輻照度輪廓和相位的許多可用選項，以最大限度地提高雷射系統的性能。

了解確保雷射應用成功必須考慮的關鍵參數。將為這些參數建立通用術語。

了解最常用的雷射光學材料將有助於輕鬆瀏覽 EO 的多種雷射光學組件選擇。

測試雷射誘導損傷閾值 (LIDT) 尚未標準化，因此了解光學元件的測試方式對於預測性能至關重要。

了解最常見的雷射光源、操作模式和增益介質為您的特定應用選擇合適的雷射提供了背景。

光透過多種方法被光學介質吸收，包括將電子激發到更高能態以及轉化為熱能

超快雷射的短脈衝持續時間使其與光學元件的相互作用不同，從而影響光學元件的雷射損傷閾值。

皮膚護理的未來取決於雷射光學

眼部護理的未來取決於雷射光學。

雷射諧振腔的長度決定了雷射的諧振腔模式，或在腔體內產生駐波的電場分佈。

Trimming the Fat: Truncating Lenses to Shrink Systems

了解為什麼玻璃的體雷射誘導損傷閾值 (LIDT) 與帶有塗層（例如 AR 薄膜）的 LIDT 光學元件顯著不同。

Learn how Highly-Dispersive Mirrors compensate for dispersion and compress pulse duration in ultrafast laser systems, which is critical for maximizing performance.

Pushing Optics to the Extreme

您是否不清楚景深和焦深而感到困惑？在愛特蒙特光學中發現差異以及如何區分兩者。

Pulse Compression and Dispersion Compensation for Ultrafast Lasers

Many laser applications are prone to specular reflections back into the source, causing overheating and decreased stability and lifetime.

了解如何透過愛特蒙特光學的計算、工作距離和範例了解成像鏡頭的焦距和視野。

超快高色散反射鏡對於超快雷射應用中的脈衝壓縮和色散補償、提高系統性能至關重要。

抗反射 (AR) 鍍膜應用於光學元件，以提高吞吐量並減少背反射造成的傷害。

具有超低表面粗糙度的超精密拋光光學元件可最大限度地減少光學系統中的散射，這對於敏感雷射應用至關重要。