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您是否正在設計一個系統並考慮是否使用串聯照明？在愛特蒙特光學上了解更多有關使用線上產品的正確時間和比較的資訊。

不確定您的系統應該使用哪種類型的照明？在愛特蒙特光學上了解更多有關不同照明類型的優缺點的資訊。

機器視覺系統嚴重依賴照明。在愛特蒙特光學上了解更多關於結構化照明如何最大化您的系統的資訊。

為了了解漸暈，了解感測器尺寸、格式以及滾降和相對照明非常重要。如需了解更多信息，請訪問愛特蒙特光學。

您認為機器視覺應用不需要遠心照明嗎？了解愛特蒙特光學為何需要遠心照明。

螢光成像系統由三個主要組件組成：照明源、光激活螢光團樣品和偵測器。

想了解更多關於顯微物鏡的知識嗎？了解愛特蒙特光學用於建立顯微物鏡的不同組件、關鍵概念和規格。

您想測量鏡頭的性能嗎？儘管這可能是一項艱鉅的任務，但有一些曲線可以提供幫助。請造訪愛特蒙特光學以了解更多資訊。

計量對於確保光學元件始終滿足其所需的規格至關重要，尤其是在雷射應用中。

當嘗試從成像系統獲取資訊時，波長既可能有價值，也可能有害。了解有關解決愛特蒙特光學波長問題的更多資訊。

您在專業領域中經常使用成像系統嗎？在愛特蒙特光學了解改進成像系統和實踐的重要技巧。

視差和畸變的消除在確定某些遠心鏡頭的品質方面發揮著重要作用。在愛特蒙特光學了解更多。

透過直接比較相關的調變傳遞函數 (MTF) 曲線來探索成像鏡頭表現的差異。

你的圖片上的定義不清楚嗎？回到基礎知識，在愛特蒙特光學了解有關影像對比度及其重要性的更多資訊。

在成像過程中，光線透過成像鏡頭從物體映射到成像感測器上，以再現物體的特徵和相似性，以便進行檢查、分類或分析。

時至今日，傳感器的像素越來越小，數量則持續增加，因此鏡頭製造商一方面增加選擇，同時也推動鏡頭設計及製造突破極限。

Optical considerations for collimating various types real and ideal point sources. Learn more at Edmund Optics.

物方和像方是遠心的兩種。這些是指光學系統的出射光瞳和入射光瞳位置。

光學元件的表面下損傷會導致吸收和散射增加，從而降低系統性能。

假設許多雷射具有高斯分佈，了解高斯光束傳播對於預測雷射的實際性能至關重要。

想了解更多關於螢光顯微鏡用螢光濾光片的資訊嗎？在愛特蒙特光學了解更多資訊和庫存光學濾光片。

抗反射 (AR) 鍍膜應用於光學元件，以提高吞吐量並減少背反射造成的傷害。

試圖了解您可以從鏡頭和感光元件獲得多少資訊？了解有關愛特蒙特光學收集數據的限制的更多資訊。

對於鏡頭而言，f/# 是最重要的設定之一，因為它控制多個參數。了解愛特蒙特光學的 f/# 控制功能。

光通過孔徑時產生的繞射圖案稱為艾里斑。了解艾里斑如何影響愛特蒙特光學的影像。

在使用機器視覺時，可以使用不同類型的濾波器來改變影像。了解愛特蒙特光學的不同類型。

了解如何瀏覽用於塑造雷射光束的輻照度輪廓和相位的許多可用選項，以最大限度地提高雷射系統的性能。

定焦鏡頭、變焦鏡頭、微距鏡頭都是可變倍率鏡頭。在愛特蒙特光學了解更多。

有多種指標用於描述雷射光束的質量，包括 M2 因子、光束參數乘積和桶中的功率

測試雷射誘導損傷閾值 (LIDT) 尚未標準化，因此了解光學元件的測試方式對於預測性能至關重要。