發佈時間:2017年9月 | 查看所有光學新動態
隨著光源、數位傳感器及鍍膜腔技術與時俱進,光學濾光片將自然演進發展,持續向前邁進。光學濾光片在自動化、能源、醫療成像、保全及多元素光學系統等最嚴苛的應用之中扮演關鍵角色。
前述進展成果需要開發新型基材,例如具有彈性的薄膜聚合物,以及矽和鍺等紅外線級材料,或是新型的化學物質及化合物,能在紫外線及紅外線光譜產生高穿透及高度攔截能力的濾光效果。鍍膜腔技術的進展成果,實現更精準的濾光片,產生 1nm 以下且容差低於 1% 的頻寬,真正將頂級分光光度計的功能推向極限。透過以上各種進展,容差及規格獲得進一步最佳化,提供更出色的精準基材,搭配更優異的表面品質、表面平整度、平行能力及穿透波前。
新型材料、次奈米級規格、深紫外線到遠紅外線的光譜涵蓋範圍,以及各種更出色的容差,將持續在幾乎每一種消費者及科學應用之中,推動光學及光電領域不斷向前進展。
愛特蒙特光學持續提升光學濾光片規格及容差。以下列出部分最新強化的光學濾光片功能。
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20-10 表面品質 |
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λ/10 P-V 表面平整度 |
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λ/20 RMS 穿透波前 |
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最低 250nm 的紫外線波長,以及將近 4000nm 的紅外線波長 |
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濾光片厚度最薄 200µm |
圖5: TECHSPEC® 高效能螢光二向色濾光片的表面及波前圖
愛特蒙特光學可製造最大 300mm 直徑的濾光片。由於濺鍍及鍍膜的限制,在這種大小的基材上,需要考量到容差及均勻性。
常見的濾光片基材材料包括熔融石英、N-BK7 及浮式玻璃。近期趨勢則是朝向螢光材料、矽及鍺等紅外線晶體材料、聚合物和塑膠材質發展。
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