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Search Results for: New Microscopy (17)

Choosing the Right Lasers and Optics for Ultrafast Microscopy

Join us for a discussion on selecting the best ultrafast laser sources and optical components for your ultrafast microscopy system to maximize performance.

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Ushering in a New Era of Edge AI with Sony AITRIOS and IMX500

WEBINAR: Join us for a 40-minute webinar presented by Sony Semiconductor Solutions Americas’ VP of Technology and Business Innovation, Mark Hanson, and Edmund Optics' Director of Imaging, Nicholas Sischka, to understand the nuance between AI, Edge AI, and Vision AI; what makes Sony AITRIOS unique; and how Lucid Vision Labs is putting the IMX500 sensor to action.

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如何用庫存組件建構光阻隔器?

Many laser applications are prone to specular reflections back into the source, causing overheating and decreased stability and lifetime.

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了解顯微物鏡

想了解更多關於顯微物鏡的知識嗎?了解愛特蒙特光學用於建立顯微物鏡的不同組件、關鍵概念和規格。

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Innovation Summit November 2022

Mastering Machine Vision Integration

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顯微鏡用螢光濾光片

想了解更多關於螢光顯微鏡用螢光濾光片的資訊嗎?在愛特蒙特光學了解更多資訊和庫存光學濾光片。

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光束直徑對 LDT 的重要性

雷射直徑對光學元件的雷射誘導損傷 (LIDT) 影響很大,因為光束直徑直接影響雷射損傷的機率。

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光學濾光片的未來

New optical filters are being developed due to the advancements in applications and technologies. Learn more about the future of filters at Edmund Optics.

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紫外雷射

A new generation of small, cost-effective, CW ultraviolet (UV) lasers allows more applications to move to UV wavelengths for increased power and precision.

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CMOS 傳感器技術的 進展成果

Sensor Manufacturing Designs & Methods

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了解表面品質規格

光學元件的表面品質取決於其表面的散射,這在雷射光學應用中尤其重要。

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玻璃中的本體雷射損傷

了解為什麼玻璃的體雷射誘導損傷閾值 (LIDT) 與帶有塗層(例如 AR 薄膜)的 LIDT 光學元件顯著不同。

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當前機器視覺與相機技術發展趨勢

機器視覺技術的四大趨勢主題包括邊緣人工智慧(edge AI)、與高解析度感測器配對的人工智慧、基於事件的機器視覺以及SWIR感測器技術的可承受性。

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雷射光學度量

計量對於確保光學元件始終滿足其所需的規格至關重要,尤其是在雷射應用中。

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光束品質 以及 Strehl 比

有多種指標用於描述雷射光束的質量,包括 M2 因子、光束參數乘積和桶中的功率

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雷射擴束鏡

雷射擴束鏡對於降低功率密度、最小化遠距離光束直徑以及最小化聚焦雷射光斑尺寸至關重要。

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雷射光束整型概觀

了解如何瀏覽用於塑造雷射光束的輻照度輪廓和相位的許多可用選項,以最大限度地提高雷射系統的性能。

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