極紫外線 (EUV) 球面反射鏡

極紫外線 (EUV) 球面反射鏡採用多層鉬/矽鍍膜，可在 13.5nm 提供 60% 以上的反射率。這類產品是為 5 度入射角所設計，用於聚焦非偏振的 EUV 雷射光源。表面粗糙度低於 3Å RMS，可將散射降到最低。這是 EUV 波長的必要條件，因為 EUV 波長遭受的散射高於較長波長。EUV 球面反射鏡具有非常窄的帶通，約為 0.5nm，可在高諧波產生 (HHG) 應用中確保只反射所需的 13.5nm 諧波。EUV 球面反射鏡的一般應用包括同調繞射成像 (CDI)、EUV 成像及 EUV 奈米加工。

請注意：包含每個反射鏡生產運行樣本的測試資料。