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離子束濺鍍鍍膜

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離子束濺鍍鍍膜

  反射率 >99.99%

  本類鍍膜較不受溫度及濕度等環境因素影響

  表面粗糙度不再受鍍膜限制

  鍍膜涵蓋 266-1600nm 波長

  適用於超快鍍膜的群組延時色散 (GDD) 控制

愛特蒙特光學® 設計和製造的光學鍍膜,是以離子束濺鍍 (IBS) 技術進行沉積;IBS 是一種高重複性的鍍膜技術,適用於高反射率反射鏡、超快反射鏡,以及具有急劇過渡的濾光片。

 
 

使用孔腔內共振衰減 (CRD) 損耗計測量高反射率 IBS 鍍膜

  • 適合高反射率光學元件的高水準度量技術
  • 以百萬分點等級對總損耗進行高度敏感的測量
  • 在測試光學元件及參考反射鏡組成的孔腔內測量訊號衰減率
進一步瞭解高反射率光學元件的度量技術
CRD loss meters produce a highly-sensitive loss measurement of signal decay rate, quantifying a component’s transmission, absorption, and scatter
圖 1: CRD 損耗計可對訊號衰減率進行高度敏感的損耗測量,藉此量化元件的穿透率、吸收率和散射。
Loss measurements made using CRD are much more accurate for highly-reflective optics than direct transmission or reflection measurements made using a spectrophotometer
圖 2: 使用 CRD 針對高反射率光學元件進行的損耗測量,遠比使用分光光度計進行的直接穿透或反射測量更為準確。
 

高雷射誘發損傷閾值 (LIDT)

IBS 鍍膜具備高雷射誘發損傷閾值,因此適用於雷射光學應用。

波長 典型 LIDT
355nm 10 J/cm2 @ 20ns, 10Hz
532nm 25 J/cm2 @ 20ns, 10Hz
1064nm 30 J/cm2 @ 20ns, 10Hz
表 1: 由於持續改善製程,典型 LIDT 值會隨時間持續進步。

超快 IBS 鍍膜

  • 專為近乎為零或高負群組延時色散 (GDD) 所設計的鍍膜層
  • 盡可能減少或補償超快雷射系統常見的高色散
  • 超快雷射的短脈衝期間有利於各種應用
  • 使用白光干涉技術準確測量 GDD

適合 IBS 光學元件的超精密拋光基材

  • RMS 表面粗糙度 <1Å 可有效減少色散
  • 熔融石英基材直徑最高可達 50mm
  • 可補足 (IBS) 鍍膜的不足之處,打造損耗極低的光學元件
進一步瞭解  
 

客製設計和製造的 IBS 光學元件

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