Name: 532nm, 20mm Dia., 9x9 Spot Matrix, Diffractive Beamsplitter
SKU: 14-688
Price: NT$42,350

532nm, 20mm Dia., 9x9 Spot Matrix, Diffractive Beamsplitter

HOLO/OR Diffractive Beamsplitters

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下載產品資料

Clear Aperture CA (mm):

Coating:

Laser V-Coat (532nm)

Design Wavelength DWL (nm):

532

Diameter (mm):

20.00 +0.05/-0.15

Substrate: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More

Fused Silica (Corning 7980)

Thickness (mm):

3.00 ±0.1

Input Beam Mode:

SM or MM

Minimum Beam Diameter (mm):

0.37

Overall Efficiency (%):

Full Angle (°):

2.0 x 2.0

Output Number of Spots:

9 x 9

Separation Angle (°):

0.25 x 0.25

Uniformity (%):

<13

Zero Order, Relative to the Average (%):

0-100

See Link for More Details

Regulatory Compliance

RoHS 2015:

Compliant

Certificate of Conformance:

View

Reach 233:

Compliant

產品系列說明

將光束分為多個繞射階
1 維陣列或 2 維矩陣輸出
專為 Nd:YAG 及 CO₂雷射所設計
相容於單模或多模雷射

HOLO/OR 繞射分光鏡為繞射光學元件 (DOE)，可將輸入雷射光束分為多個光束，也就是所謂的繞射階。前述繞射階可配置為一維光束陣列或二維光束矩陣，個別光束光斑則是依據定義的分隔角度分佈。HOLO/OR 繞射分光鏡提供適合 Nd:YAG 諧波（355nm、532nm 及 1064nm）及 CO₂ 雷射的設計。HOLO/OR 繞射分光鏡適用於各種材料加工應用，包括平行材料加工及雷射劃線，以提升雷射系統傳輸量，並可用於分段療程等醫美療程。

請注意：繞射光學元件不應在其設計波長以外範圍使用。繞射光學元件表面若遭油或其他物質弄髒，將會降低效能。操作這類光學元件時，建議一定要配戴手套或指套。

愛特蒙特光學針對雷射應用提供一系列的 HOLO/OR 繞射光學元件，其中包括：

繞射漫射器: 用於將輸入雷射光束轉換為均質化分佈的定義形狀
繞射分光鏡: 用於將輸入雷射光束分割為 1D 陣列或 2D 矩陣輸出
繞射光束整型器: 用於將近乎高斯的雷射光束，轉換為具有均勻平頂強度分佈的定義形狀
繞射光束取樣器: 用於穿透輸入雷射光束，同時產生兩個更高階的光束，可用於監控高功率雷射
繞射軸稜鏡: 用於將輸入雷射光束轉換為可對焦至環形的貝索光束
繞射渦旋相位板: 用於將高斯輪廓光束轉換為甜甜圈形的能量環