50.0mm Dia. 193nm 45°, Excimer Laser Line Mirror

產品系列說明

• 破壞閾值高，可達1.5J/cm²
• 具有低損失的電介質鍍膜
• 專為 193nm 及 248nm 的雷射而設計

高能量準分子雷射光反射鏡非常適用於需求最嚴苛的紫外線應用，已進行最佳化，能與高功率準分子雷射搭配使用。精密的紫外線級熔融石英基材可提供出眾的熱穩定性與很低的波前畸變。所有反射鏡都針對45°入射角而設計，偏振相依性非常低。如需0°入射角的版本，請聯絡我們。

我們的 TECHSPEC® 雷射光反射鏡系列專為最嚴苛的雷射應用而設計。本系列反射鏡採用雷射品質基材，最高可達 10-5 的表面品質，並結合緊密的反射鍍膜，以及雷射類型與波長專屬的損傷閾值，適合用於各種需要精密反射及出色耐用度的應用。所有 TECHSPEC® 雷射光反射鏡均可將散射損失降到最低，並輕鬆安裝至任何光學系統。