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量測技術

若無法測量,就無法製造

Edmund Optics® 採用各種最先進的量測技術以確保滿足所有規格要求。我們工藝中的量測能力包括光腔衰蕩光譜法、白光干涉測量法、非接觸式 3D 輪廓測量法等。內部雷射測試實驗室可以改進內部流程並驗證雷射損傷閾值。

 
 

技術

 

關鍵技術

短同調長度干涉測量法

  特殊的 LED 光源用於測量平行、平坦的表面,同時最大限度地減少背面的反射

  無需對後表面進行特殊處理,從而最大限度地縮短了測量時間,降低了損壞工件的風險以及測量不準確的風險

  非常適合測量雙面鍍膜的光學元件,例如背面帶有應力補償鍍膜的離子束濺射(IBS)鍍膜反射鏡

 

關鍵技術

光熱共路干涉測量法

  精確測量吸收率可更好地鑒定光學鍍膜和基材的光譜特性

  泵浦-探測幾何結構可測量吸收導致的熱膨脹引起的折射率變化

  與分光光譜儀相比,可以更靈敏和準確地量測吸收率。因為是透過直接測量穿透率,來間接測定對極低水平的吸收率測量。

 
 

關鍵技術

雷射光學裝配量測

  測量裝配性能的內部測試

  穿透波前誤差

  雷射光束輪廓

  測量桶內功率和目標上的能量

  開發針對特定應用的測試

 

關鍵技術

紫外線疲勞和雷射誘導污染測試

  內部雷射實驗室進行長期應用紫外線雷射照射實驗

  雷射引起的污染是紫外雷射系統的主要問題之一

  由於環境或氣密性不良造成的污染會大大降低性能或導致系統故障

  熟悉清潔和裝配技術以減輕這些影響

 
 

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* The term dual use is often used to describe the types of items subject to the EAR (Export Administration Regulations). A dual use item is one that has civil applications as well as military or weapons of mass destruction (WMD)-related applications.

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