

- 適合紫外線、可見光及紅外線應用(250nm 至 10μm)的高反射鍍膜
- 2 倍至 5 倍的多種反射放大倍率
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採用單片式設計以減少熱效應並簡化校準
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採用專利金剛石車削技術製造而成


- 適合 Nd:YAG 雷射波長的抗反射鍍膜:355nm、532nm 及 1064nm
- 提供 2 至 10 倍的放大倍率
- 專為 OEM 整合設計,無發散調整功能


- 適用於 633nm 氦氖雷射波長的抗反射鍍膜
- 提供 3 至 20 倍的固定放大倍率
- 以非旋轉光學元件調整發散


- 適合以下雷射波長的抗反射鍍膜:266nm、355nm、405nm、532nm、1064nm 及 1940nm
- 提供 1.5 至 20 倍的固定放大倍率
- 透過旋轉光學設計調整發散
- 熔融石英基材


- 繞射極限效能:λ/14 RMS 穿透波前
- 採用錐形設計,在入射角為45°時可取得更大的間隙
- 採用曲線型十字軸支架,以降低繞射影響
- 亦提供 reflx™反射物镜 物鏡


- 領先業界的 19 至 31mm 工作距離
- 由愛特蒙特光學設計及製造,適用於聚焦或成像應用
- 主動對準以實現最佳效能
- 190nm 至 11μm 的超寬光譜帶,無色像差
- 亦提供 高效能reflx™物鏡


- 1X - 3X及2X - 8X連續放大倍率
- 方便針對雷射光束擴散進行調整
- 緊湊的 Galilean 設計,外殼長度固定的非旋轉式光學產品
- 同時提供 TECHSPEC® Draconis™ 寬頻擴束器


- 適合寬頻可調諧雷射光源的抗反射鍍膜
- 提供 3 至 20 倍的固定放大倍率
- 透過減少光束漂移的非旋轉光學設計調整發散
- 寬頻設計可容納多個雷射波長或可調諧雷射


- 適合 Nd:YAG 雷射波長的抗反射鍍膜:532nm 及 1064nm
- 提供 3 至 20 倍的固定放大倍率
- 透過減少光束漂移的非旋轉光學設計調整發散
- 採用精巧的 Galilean 設計


- 在 632.8nm 及 1064nm 修正色彩
- 最佳化以減少球面像差
- 最小的光斑大小,適合材料加工

- Ideal for Broad Spectral Laser Scanning Applications
- Diffraction Limited Across the Scan Field with Low Wavefront Error
- Long Working Distance and Large Scan Area
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